Позитивный фоторезист для микроэлектронных и фотолитографических процессов

Позитивный фоторезист предназначен для применения в микроэлектронных и фотолитографических процессах, где требуется формирование заданного рисунка на поверхности материала с использованием фотолитографии.

Продукт относится к категории специальных материалов для высокотехнологичных производств и является частью развиваемой линейки отечественной химической продукции для микроэлектроники.

Направление предусматривает дальнейшее расширение номенклатуры материалов с учётом требований и задач российских предприятий микроэлектронной отрасли.

При необходимости технические характеристики предоставляются по запросу.